与传统离子交换法(D1)相比,EDl具有以下特点:
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可连续生产超纯水,产水水质稳定; |
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不需酸、碱再生,节约酸、碱消耗以及 相应的储运和再生设施; |
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避免了危险化学品对操作人员的伤害; |
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无再生污水产生,工艺过程洁净,不需 污水处理设施; |
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结构紧凑,占地面积小; |
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运行操作简单,劳动强度低。 |
出水水量 | LX-50-HI | LX-100-HI | LX-200-HI | LX-300-HI | LX-400-HI | LX-500-HI | LX-700-HI |
产水流量范围(m³/h) | 0.5~0.7 | 0.7~1.2 | 1.5~2.5 | 2.0~3.5 | 3~4.5 | 3.5~5.5 | 5.5~7.5 |
标准产水流量(m³/h) | 0.5 | 1.0 | 2.0 | 3.0 | 5.0 | 5.0 | 5.0 |
产水电阻率(MQ·cm) | >15 | >15 | >15 | >15 | >15 | >15 | >15 |
硅、硼去除率(%) | ≥99 | ≥99 | ≥99 | ≥99 | ≥99 | ≥99 | ≥99 |
进水要求 | LX-50-HI | LX-100-HI | LX-200-HI | LX-300-HI | LX-400-HI | LX-500-HI | LX-700-HI |
温度范围(℃) | 15~35(最佳25) | 15~35(最佳25) | 15~35(最佳25) | 15~35(最佳25) | 15~35(最佳25) | 15~35(最佳25) | 15~35(最佳25) |
进水PH | 6.5~9.0 | 6.5~9.0 | 6.5~9.0 | 6.5~9.0 | 6.5~9.0 | 6.5~9.0 | 6.5~9.0 |
进水导电率(us/cm) | 1~25(Zui优<5) | 1~25(Zui优<5) | 1~25(Zui优<5) | 1~25(Zui优<5) | 1~25(Zui优<5) | 1~25(Zui优<5) | 1~25(Zui优<5) |
总二氧化碳(ppm) | <3(Zui优<2) | <3(Zui优<2) | <3(Zui优<2) | <3(Zui优<2) | <3(Zui优<2) | <3(Zui优<2) | <3(Zui优<2) |
总硬度(ppm) | <1 | <1 | <1 | <1 | <1 | <1 | <1 |
硅·活性硅(ppm) | ≤0.5(Zui优≤0.2) | ≤0.5(Zui优≤0.2) | ≤0.5(Zui优≤0.2) | ≤0.5(Zui优≤0.2) | ≤0.5(Zui优≤0.2) | ≤0.5(Zui优≤0.2) | ≤0.5(Zui优≤0.2) |
总有机碳(ppm) | ≤0.5 | ≤0.5 | ≤0.5 | ≤0.5 | ≤0.5 | ≤0.5 | ≤0.5 |
余氯(ppm) | ≤0.01 | ≤0.01 | ≤0.01 | ≤0.01 | ≤0.01 | ≤0.01 | ≤0.01 |
离子金属(Fe/Mn.ppm) | ≤0.01 | ≤0.01 | ≤0.01 | ≤0.01 | ≤0.01 | ≤0.01 | ≤0.01 |
浊度(NTU) | <1 | <1 | <1 | <1 | <1 | <1 | <1 |
油脂 | 未检出 | 未检出 | 未检出 | 未检出 | 未检出 | 未检出 | 未检出 |
进水颗粒(um) | ≤1.0(Zui优≤0.5) | ≤1.0(Zui优≤0.5) | ≤1.0(Zui优≤0.5) | ≤1.0(Zui优≤0.5) | ≤1.0(Zui优≤0.5) | ≤1.0(Zui优≤0.5) | ≤1.0(Zui优≤0.5) |
氧化剂 | 未检出 | 未检出 | 未检出 | 未检出 | 未检出 | 未检出 | 未检出 |
凯聚达高温HI系列膜堆专门针对医药行业设计。在Z系列膜堆基础上改进的HI系列膜堆可以用85C热水消毒,而不需要缓慢升降温操作。HI系列模堆的消毒时间只需约1.5小时,相对需要缓慢升降温的Z系列膜堆节省了约1.5小时的时间。凯聚达HI系列膜堆主要应用于需要对RO产水进行进一步精处理的制药、生物技术和饮料行业。
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